間歇反映時(shí)，構(gòu)成隨時(shí)隨地光座標(biāo)而變更，換句話說，間歇體系無論在所有室內(nèi)空間座標(biāo)內(nèi)是不是勻稱一致，但其構(gòu)成卻時(shí)刻都是在變更粉，自始至終當(dāng)做到熱學(xué)平衡(或是到過程完畢)截止。持續(xù)反映的關(guān)鍵不一樣，是相對(duì)應(yīng)的構(gòu)成變更造成于室內(nèi)空間座標(biāo)上間歇反映時(shí)，構(gòu)成隨時(shí)隨地光座標(biāo)而變更，換句話說，間歇體系無論在所有室內(nèi)空間座標(biāo)內(nèi)是不是勻稱一致，但其構(gòu)成卻時(shí)刻都是在變更粉，自始至終當(dāng)做到熱學(xué)平衡(或是到過程完畢)截止。持續(xù)反映的關(guān)鍵不一樣，是相對(duì)應(yīng)的構(gòu)成變更造成于室內(nèi)空間座標(biāo)上，在體系的一切部位，構(gòu)成一般不隨時(shí)隨地光而變，構(gòu)成的變更卻衰當(dāng)時(shí)體系的這一部位跟那一部位中間，比如持續(xù)拌和加氫反應(yīng)釜組的鄰近釜間，或列管式加氫反應(yīng)釜的鄰近橫截面間。自然，這類歲月上趨向穩(wěn)定不會(huì)改變的體系，僅好用于穩(wěn)定投料速度跟穩(wěn)定移熱速度等場(chǎng)所。即使如此，反映體系也并不是一定做到相位系統(tǒng)情況，而在某些特例中，全部各種各樣原材料的濃度值很有可能在某一特殊值的相鄰一直地多少平穩(wěn)。這類清況很有可能造成在包括醉反映以內(nèi)的繁雜的自催化反應(yīng)速度中，及其存有尤其熱特性的反映中。

務(wù)必強(qiáng)調(diào)，就算做到了相位系統(tǒng)情況，但也不是一種平衡，“平衡”這一術(shù)語，某些用在封閉式體系處在不隨時(shí)隨地光而變的狀春。對(duì)外開放體系的相位系統(tǒng)情況，比如持續(xù)加氫反應(yīng)釜，在于流動(dòng)性實(shí)體模型、化學(xué)反應(yīng)速率及其加氫反應(yīng)釜尺寸等要素。一般，務(wù)必在發(fā)展商品成品率跟為了更好地生產(chǎn)制造所搖而擴(kuò)大加氫反應(yīng)釜項(xiàng)目投資中間，開展經(jīng)濟(jì)發(fā)展上的考量。